オフセット印刷CTPプレートプロセッサ開発者洗浄
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オフセット印刷CTPプレートプロセッサ開発者洗浄

オフセット印刷CTPプレートプロセッサ開発者洗浄

CTPプロセッサは、CTPレーザーによって露出したCTPプレートが露出した後、CTP印刷プレート用の開発者洗浄装置です。CTPプロセッサは、オフライン /オンラインサーマルCTPまたはCTCPまたはKodak、スクリーン、AGFA、CREO、AMSKYまたはCRON CTP MichinesなどのUV-CTPプレートセッターで使用できます。

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製品説明

オフセット印刷CTPプレートプロセッサ開発者洗浄

 

1.アプリケーション

CTPプロセッサは、CTPプレートがCTP(コンピューターからプレート)レーザーに露出した後、CTPプリントプレート用の開発者洗浄装置です。CTPプロセッサは、コダック、CREO、AMSKYまたはCRON CTPマシンなど、オフライン /オンラインサーマルCTPまたはCTPまたはUV-CTPプレートセットで使用できます。

 

2.特徴

1)優れた全体的な設計により、開発効果、明確なアウトレット、安定した製品のパフォーマンス、強力な信頼性が保証されます。

2)開発温度と開発時間は、さまざまなプレートとポーションの洗浄要件を満たすために正確に制御され、アプリケーション範囲は広くなっています。

3)節水効果は驚くべきものです。洗浄時間の正確な制御と噴霧方法の科学的設計により、水の80%を節約できます。

4)乾燥、均一なレイアウト温度(同等の効果が30%を節約できる)における大幅な省エネ

5)開発者ソリューションのインテリジェントな補充システム開発効果を確保し、無駄を減らす。

6)発達サイクルのパワー、ろ過、パイプラインのレイアウトの科学的設計は、結晶化を効果的に阻害する可能性があります。

7)低い液体レベルのアラーム、乾燥および過剰な温度自己保護機能、安全で信頼性。

8)タッチスクリーンマンマシンインターフェイスは直感的で理解しやすく、操作をより便利にします。

9)ゴムローラーやブラシなどのアクセサリーは、半分に折りたたむことができ、位置メモリ、簡単なメンテナンスの機能があります。

 

3.指定

マシンタイプ

P900E

P1150E

P1250E

P1500E

ページサイズ

280-880 mm

280-1150 mm

280-1250 mm

290-1500 mm

プレートの厚さ

0。15-0。4mm

0。15-0。4mm

0。15-0。4mm

0。15-0。4mm

処理速度

速度調整可能(10-60秒)400-2400 mm/mink

温度

10〜45度を調整できます(自動温度制御、冷却システム)

容量の開発

46L

58L

70L

76L

乾燥温度

20-65程度を調整できます

電気源

220 V(210V -240 v)単相50-60 Hz

作業率

4.5kw

5kw

5.5kw

7.5kw

正味重量

320kg

340kg

360kg

800kg

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生産と梱包

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インストールケース

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CTPプロセッサの適用:

プロセッサの背面にあるスライドテーブルがデフォルトで含まれています

スタッカーはオプションのアイテムであり、個別に追加する必要があります

マニュアルCTP 400および800モデルの場合、プレートを手動でめくり、ポートレートスタイルでプロセッサを入力できるため、p -900プロセッサで十分です。

800の自動モデルの場合、ランドスケープスタイルでのプレート出力としてp -1150プロセッサが必要です

 

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